TCL华星2024届博士招聘正式启动!(内附TCL华星面试经验)

1、此次，TCL华星正式启动2024届博士招聘计划，面向海内外应届博士毕业生。此计划覆盖全类型显示产品，包括电视、手机、笔记本等，旨在让屏幕内的世界更精彩，生活无处不显示。TCL华星致力于打造顶尖的技术创新团队，分为三梯队：核心技术专家、优秀同业人才、潜质后备人才。

2、TCL华星创新技术荣获“Technology Innovation技术创新奖”，在2024年联想全球供应商大会以先锋显示科技亮相。大会以“拥抱AI共创美好”为主题，TCL华星携10余款前沿显示产品包括手机、IT领域在内的最新科技成果参展。这些产品搭载了TCL华星的柔性OLED、印刷OLED等创新科技，为与会者提供了多元化的视觉体验。

3、TCL华星与英特尔在屏幕和芯片领域的深度合作，推动了电竞显示生态的升级。在2024英特尔大师挑战赛中，TCL华星的电竞屏市场份额持续领先，展现出在娱乐电竞行业的卓越地位。未来，TCL华星将继续关注消费者需求，携手合作，为电竞产业的高质量发展贡献力量，引领电竞显示技术的潮流。

4、推荐的A++广角超显屏，通过纳米仿生科技提升控光，对比度和画质大幅提升，而TCL华星的高端蝶翼星曜屏则搭载低反膜，减少反光，保证画面清晰度的卓越体验。

5、破序激变，智驱未来——在2024北京国际汽车展览会上，Unity中国凭借其创新的次世代智能娱乐座舱，携手TCL华星共同打造了一款引人瞩目的未来座舱。这款座舱的核心亮点在于一款36 6K高清中控贯穿式大屏，它采用了TCL华星的Mini LED+LTPS技术，展现出卓越的视觉效果和交互体验。

二元光学的功能和特点

1、二元光学因其独特的功能和特点，近年来发展迅速。首先，它具有高衍射效率，通过浮雕结构实现多相位阶数，能提供显著的衍射效率提升，例如L=8和16时的衍射效率分别高达40.5%、81%、99%和96%。其次，二元光学元件的色散性能独具一格。

2、二元光学元（器）件因其在实现光波变换上所具有的许多卓越的、传统光学难以具备的功能，而有利于促进 光学系统实现微型化、阵列化和集成化，开辟了光学领域的新视野。

3、微 光学元件是制造小型光电子系统的关键元件，它具有体积小、质量轻、造价低等优点，并且能够实现普通光学元件难以实现的微小、阵列、集成、成像和波面转换等 新功能。光学是一门古老的科学。自伽利略发明望远镜以来，光学已走过下几百年的漫长道路。

光刻所用的掩模板是怎么制作的?

1、光刻机掩膜版的制作过程复杂而精密，其自身结构如同反射镜，但设计更为精细。掩膜版基底选用热膨胀系数低的二氧化硅材料，掺杂有二氧化钛，以确保稳定性。基底需极致光滑，无任何瑕疵，表面镀100层膜，每层由硅（Si）和钼（Mo）交替叠加，厚度控制在4nm，以最小化EUV光的损耗。

2、揭秘光刻艺术的核心：掩模板的精密制作过程在光刻技术的神秘世界中，掩模板，也被称为光罩或mask，是那枚承载精密电路图案的关键元件。它的诞生源于精细的石英玻璃基板，经过层层工艺打磨，成为光掩模坯料。在这个坯料上，一层铬原子如同舞台上的幕布，被精确地沉积在其表面，形成不可或缺的遮光层。

3、在亚微米级别的CMOS工艺中，掩模版的设计流程精细至极：光刻机利用光线的精准照射来完成对光刻胶的蚀刻，这一过程将电路图的大尺寸图案缩小至适合芯片尺寸，并使电路得以自动形成。

4、电极掩模板针对需要高精度与稳定性的电路制作，提供金属掩模板的极致性能，收到学术与研究机构的普遍好评。绝缘层掩模板专为线路与线路间的绝缘层蒸镀设计，具备高贴合度、高精度与长使用寿命，满足工业与学术研究的高质量需求。

5、第一步：制造掩模版 光刻工艺的第一步是制造掩模版。掩模版是光刻工艺中用于将设计图案转移到晶圆上的工具。掩模版上涂有一层铬，其上刻有设计好的图案。在制造过程中，首先使用电子束曝光技术将图案转移到光敏材料上，然后使用化学方法将光敏材料上的图案转移到铬层上。

6、自动制图机、光学图形发生器等高精度设备，提高了制作效率和精度。电子束图形发生器具有高分辨率和高速扫描系统，可以用于制作中间掩模版和母掩模版或工作掩模版。短波长射线成像曝光技术系统采用电子束、离子束或X射线等直接在硅片上扫描成像，取代传统的光掩模图形转移技术，以提高集成度和成品率。